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常見的陶瓷靶材有哪些

點擊量:396  更新時間:2019/9/24

隨著電子產業的發展,高技術材料逐漸向薄膜轉移,鍍膜期間隨之發展迅速,靶材是一種具有高附加值的特種電子材料,是濺射薄膜材料的源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產業發展的基礎材料,已得到空前的發展,靶材市場規模日益膨脹。

國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝,可生產最大長度600mm,最大寬度400mmm,最大厚度30mm,圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶要求加工。

常見的陶瓷靶材主要有:ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、二氧化鋯靶,五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁、靶五氧化二鉭、五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等。

陶瓷靶材的種類:

(1)按化學組成,可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內已廣泛生產應用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景。

(2)按應用來分,可分為半導體關聯陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。

陶瓷靶材在現有的復雜電子產品制造中,只不過占工程的極少部分,但起到了信息產業基礎先導材料的作用。我國電子信息產業發展很快,陶瓷濺射靶材的需求逐年增多,未來對陶瓷濺射靶材的研究和開發,是我國靶材供應商的一個重要的課題。
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